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Simulation of junctionless Si nanowire transistors with 3 nm gate length

机译:具有3 nm栅极长度的无结Si纳米线晶体管的仿真

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摘要

Inspired by recent experimental realizations and theoretical simulations of thin silicon nanowire-based devices, we perform proof-of-concept simulations of junctionless gated Si nanowire transistors. Based on first-principles, our primary predictions are that Si-based transistors are physically possible without major changes in design philosophy at scales of similar to 1 nm wire diameter and similar to 3 nm gate length, and that the junctionless transistor avoids potentially serious difficulties affecting junctioned channels at these length scales. We also present investigations into atomic-level design factors such as dopant positioning and concentration. (C) 2010 American Institute of Physics. (doi:10.1063/1.3478012)
机译:受近期基于薄硅纳米线的器件的实验实现和理论模拟的启发,我们执行了无结栅控硅纳米线晶体管的概念验证模拟。基于第一性原理,我们的主要预测是,基于硅的晶体管在物理上是可能的,而无需在设计理念上进行重大更改,其尺度类似于线径为1 nm,栅极长度为3 nm,并且无结晶体管避免了潜在的严重困难。在这些长度尺度上影响连接的通道。我们还介绍了对原子级设计因素的研究,例如掺杂剂的位置和浓度。 (C)2010美国物理研究所。 (doi:10.1063 / 1.3478012)

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